Jei vakuuminis ultravioletinis lazeris gali būti sutelktas į mažą spindulių tašką, jis gali būti naudojamas mezoskopinių medžiagų struktūrai ištirti ir nano objektams padaryti tiksliau.
Norėdami pasiekti šį tikslą, Kinijos mokslininkai išrado 177 nanometrų VUV lazerinę sistemą, kuri gali pasiekti sub-mikronų fokusavimą ilgais židinio nuotoliais.
"Light Science &Applications" (LightScience&Applications) paskelbtas tyrimo rezultatas rodo, kad mokslininkai sukūrė 177nmVUV lazerinio skenavimo fotoelektrinių emisijos mikroskopo sistemą, naudodami sferinę aberacijos neturinčią juostinę plokštę, kuri yra ilgo židinio nuotolio (--45mm) Dugne yra židinio vieta<>
Palyginti su DUV lazerio šaltiniu su erdvine skiriamąja geba, šiuo metu naudojama ARPES, 177nmVUV lazerinis šaltinis gali padėti ARPES matavimui padengti didesnę pagreitinę erdvę ir turi geresnę energijos skiriamąją gebą.
VUV lazerinė sistema turi itin ilgą židinio nuotolio (-45mm), sub-mikronų erdvinę skiriamąją gebą (-760nm), itin didelę energijos skiriamąją gebą (-0.3meV) ir itin didelį ryškumą (-355MWm-2). Jis gali būti tiesiogiai taikomas mokslinių tyrimų prietaisams, tokiems kaip fotoelektrinis emisijos elektronų mikroskopas (PEEM), kampu išspręstas fotoelektrono spektrometras (ARPES), gilus ultravioletinis lazeris Ramano spektrometras.
Šiuo metu sistema atskleidė įvairių naujų kvantinių medžiagų, tokių kaip pusiau vienmatis topologinis superlaidininkas TaSe3, magnetiniai topologiniai izoliatoriai (MnBi2Te4) (Bi2Te3) m šeima ir pan., smulkios energijos juostos charakteristikas.